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簡(jiǎn)要描述：【無(wú)錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專(zhuān)?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機
產(chǎn)品型號：LTS-202廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2024-01-11訪(fǎng) 問(wèn) 量：347| 品牌 | 冠亞制冷 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價(jià)格區間 | 10萬(wàn)-50萬(wàn) | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
| 儀器種類(lèi) | 一體式 | 應用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車(chē) |
主要產(chǎn)品包括半導體專(zhuān)?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。
半導體專(zhuān)溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專(zhuān)用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統
Chiller直冷型
循環(huán)風(fēng)控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤(pán)
數據中心液冷解決方案
| 型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進(jìn)出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴展 | 通過(guò)增加電加熱器，擴展-25℃～80℃ | ||||||
半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機
半導體液冷器Chiller FPD制造裝置制冷機
隨著(zhù)科技的飛速發(fā)展，在這個(gè)微電子器件行業(yè)中，高精度、高穩定性的電子設備是必要的。而為了確保這些設備的正常運行，一個(gè)關(guān)鍵的設備——頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller，也扮演著(zhù)一定的角色。
頂層介質(zhì)刻蝕單通道頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻電子設備的設備，它通過(guò)降低設備的溫度，保證其穩定運行，延長(cháng)其使用壽命。在微電子器件行業(yè)中，頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的應用范圍非常廣泛，從大型計算機服務(wù)器到小型移動(dòng)設備，都需要用到它。
在微電子器件行業(yè)中，頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的作用不僅僅局限于冷卻設備。它還可以通過(guò)控制設備的溫度，提高設備的性能和穩定性。例如，在一些高精度的電子設備中，溫度的變化可能會(huì )對設備的性能產(chǎn)生影響。而通過(guò)使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller，可以確保設備的溫度始終保持在適合狀態(tài)，從而提高設備的性能和穩定性。
除此之外，頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller還可以通過(guò)提高設備的散熱效率，減少設備的故障率。在一些高溫環(huán)境下，如果電子設備無(wú)法及時(shí)散熱，就可能會(huì )導致設備過(guò)熱、損壞。而通過(guò)使用頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller，可以確保設備的散熱效率得到提高，從而減少設備的故障率。
在微電子器件行業(yè)中，頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller的選擇和使用也是非常重要的。要根據設備的具體需求選擇合適的頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller。其次，在使用過(guò)程中，要定期對頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller進(jìn)行檢查和維護，確保其正常運行。
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