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    高壓反應釜溫度控制 防爆高低溫循環(huán)裝置

    簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】高壓反應釜溫度控制 防爆高低溫循環(huán)裝置,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿(mǎn)足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統。

    • 產(chǎn)品型號:SUNDI-275
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間:2024-03-29
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:187
    詳情介紹
    品牌冠亞制冷價(jià)格區間10萬(wàn)-20萬(wàn)
    產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合


    無(wú)錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

    高壓反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

    雙層反應釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

    小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

    組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




    型號

    SUNDI-125

    SUNDI-125W

    SUNDI-135

    SUNDI-135W

    SUNDI-155

    SUNDI-155W

    SUNDI-175

    SUNDI-175W

    SUNDI-1A10

    SUNDI-1A10W

    SUNDI-1A15

    SUNDI-1A15W

    介質(zhì)溫度范圍

    -10℃~+200℃

    控制系統

    前饋PID ,無(wú)模型自建樹(shù)算法,PLC控制器

    溫控模式選擇

    物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

    溫差控制

    設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

    程序編輯

    可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

    通信協(xié)議

    MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

    外接入溫度反饋

    PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

    溫度反饋

    設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

    導熱介質(zhì)溫控精度

    ±0.5℃

    反應物料溫控精度

    ±1℃

    加熱功率 kW

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    制冷量 kW

    200℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    20℃

    2.5

    3.5

    5.5

    7.5

    10

    15

    -5℃

    1.5

    2.1

    3.3

    4.2

    6

    9

    流量壓力 max

    L/min bar

    20

    35

    35

    50

    50

    75

    2

    2

    2

    2

    2

    2.5

    壓縮機

    海立

    艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

    膨脹閥

    丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

    蒸發(fā)器

    丹佛斯/高力板式換熱器

    操作面板

    7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線(xiàn)顯示、記錄

    安全防護

    具有自我診斷功能;冷凍機過(guò)載保護;高壓壓力開(kāi)關(guān),過(guò)載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

    密閉循環(huán)系統

    整個(gè)系統為全密閉系統,高溫時(shí)不會(huì )有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會(huì )因為高溫使壓力上升,低溫自動(dòng)補充導熱介質(zhì)。

    制冷劑

    R-404A/R507C

    接口尺寸

    G1/2

    G3/4

    G3/4

    G1

    G1

    G1

    水冷型 W

    溫度 20度

    600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/8

    800L/H

    1.5bar~4bar

    G1/2

    1000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1200L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    1600L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    2000L/H

    1.5bar~4bar

    G3/4

    外型尺寸(水)cm

    45*65*120

    50*85*130

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    外形尺寸 (風(fēng))cm

    45*65*120

    50*85*130

    55*100*175

    55*100*175

    70*100*175

    70*100*175

    隔爆尺寸(風(fēng)) cm

    45*110*130

    45*110*130

    45*110*130

    55*120*170

    55*120*170

    55*120*170

    正壓防爆(水)cm

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    110*95*195

    120*110*195

    常規重量kg

    115

    165

    185

    235

    280

    300

    電源 380V 50HZ

    AC 220V 50HZ 3.6kW

    5.6kW

    7.5kW

    10kW

    13kW

    20kW

    選配風(fēng)冷尺寸cm

    /

    50*68*145

    50*68*145

    50*68*145

    /

    /


     

     

      萃取過(guò)程中,溫度直接影響到萃取效率、產(chǎn)品質(zhì)量以及整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程的穩定性。因此,準確的溫度控制系統成為了萃取工藝中的一部分。本文將探討反應釜制冷加熱集成溫控系統在萃取過(guò)程中的應用及其優(yōu)勢。

      一、反應釜制冷加熱集成溫控系統概述

      反應釜制冷加熱集成溫控系統結合了制冷和加熱兩種功能,能夠在同一設備內實(shí)現對反應釜內物料溫度的準確控制。該系統通常由制冷系統、加熱系統、溫度傳感器、控制系統等組成,能夠根據不同的工藝需求,快速、準確地調整反應釜內的溫度。

      二、萃取過(guò)程中的溫度控制需求

      萃取是一種通過(guò)溶劑將目標物質(zhì)從混合物中分離出來(lái)的過(guò)程。在這個(gè)過(guò)程中,溫度是影響萃取效果的因素之一。過(guò)高的溫度可能導致目標物質(zhì)變性或分解,而過(guò)低的溫度則可能使萃取過(guò)程變得緩慢或不完。因此,萃取過(guò)程中對溫度的控制有著(zhù)高的要求。

      三、反應釜制冷加熱集成溫控系統在萃取中的應用

      在萃取過(guò)程中,反應釜制冷加熱集成溫控系統能夠根據工藝要求,準確地控制反應釜內的溫度。無(wú)論是需要快速升溫還是降溫,該系統都能夠迅速響應,確保萃取過(guò)程在溫度條件下進(jìn)行。此外,該系統還能夠實(shí)時(shí)監測反應釜內的溫度,并通過(guò)控制系統進(jìn)行自動(dòng)調整,從而保證了萃取過(guò)程的穩定性和連續性。

      使用反應釜制冷加熱集成溫控系統進(jìn)行萃取能夠實(shí)現對溫度的準確控制,從而提高產(chǎn)品質(zhì)量,集成化的設計使得操作更加簡(jiǎn)便,降低了操作難度和人工成本。




      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

      

    高壓反應釜溫度控制 防爆高低溫循環(huán)裝置

    高壓反應釜溫度控制 防爆高低溫循環(huán)裝置


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