簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專(zhuān)?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置
品牌 | 冠亞制冷 | 冷卻方式 | 水冷式 |
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價(jià)格區間 | 10萬(wàn)-50萬(wàn) | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
儀器種類(lèi) | 一體式 | 應用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車(chē) |
主要產(chǎn)品包括半導體專(zhuān)?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備,
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽(yáng)能光伏等領(lǐng)域。
半導體專(zhuān)溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專(zhuān)用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統
Chiller直冷型
循環(huán)風(fēng)控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤(pán)
數據中心液冷解決方案
型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
溫度范圍 | 5℃~40℃ | ||||||
控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
流量控制 | 10~25L/min 5bar max | 15~45L/min 6bar max | 25~75L/min 6bar max | ||||
制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
內循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
制冷劑 | R410A | ||||||
載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 (DI溫度需要控制10℃以上) | ||||||
進(jìn)出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
溫度擴展 | 通過(guò)增加電加熱器,擴展-25℃~80℃ |
集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置
集成電路晶圓制造Chiller用于蝕刻裝置
淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller是一種用于冷卻半導體的設備,廣泛應用于半導體制造工序各種應用場(chǎng)景。以下是淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller的一些常見(jiàn)應用場(chǎng)景:
1、半導體制造
在半導體制造過(guò)程中,需要使用大量的半導體設備,如晶圓制造設備、封裝測試設備等。這些設備在工作時(shí)會(huì )產(chǎn)生大量的熱量,如果熱量控制不當,就會(huì )影響設備的性能和穩定性。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設備,保證設備的正常運行和生產(chǎn)效率。
2、元器件電子設備
電力電子設備如整流器、逆變器、電源等在工作時(shí)會(huì )產(chǎn)生大量的熱量,如果熱量控制不當,就會(huì )導致設備故障或性能下降。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設備,保證設備的正常運行和穩定性。
3、通信設備
通信設備如基站、交換機、路由器等在工作時(shí)會(huì )產(chǎn)生大量的熱量,如果熱量控制不當,就會(huì )影響設備的通信質(zhì)量和穩定性。淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller可以用于冷卻這些設備,保證設備的正常運行和穩定性。
總之,淺溝道隔離槽刻蝕單通道chiller在各種應用場(chǎng)景中都發(fā)揮著(zhù)一定作用,可以保證設備的正常運行和穩定性,提高生產(chǎn)效率和質(zhì)量。
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